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一种半导体结构，其在导体区完成后，利用例如选择性反应（Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ　　Ｒｅａｃｔｉｏｎ）、等离子体表面处理（Ｐｌａｓｍａ　　Ｓｕｒｆａｃｅ　　ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）或离子植入（Ｉｏｎ　　Ｉｍｐｌａｎａｔｉｏｎ）等方式来钝化（Ｐａｓｓｉｖ...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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