专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
南京工学院
>
双栅形高压MOS集成电路制造技术
>技术资料下载
下载双栅形高压MOS集成电路的技术资料
文档序号:3228358
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
双栅型高压MOS集成电路属半导体集成电路领域,它采用多个相同的双栅型高压NMOS器件组成,每个器件都采用双栅结构,利用双栅结构增大寄生双极晶体管的有效基区宽度,抑制寄生双极晶体管的激活,从而防止负阻击穿,与此同时,在电流能力不变条件下,面积...
该专利属于南京工学院所有,仅供学习研究参考,未经过南京工学院授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。