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栅电极及其形成方法技术
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文档序号:3222278
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一种在非晶硅上层叠有硅化钨的构造的栅电极,包括在半导体衬底上部形成的栅绝缘膜;在所述栅绝缘膜上部由乙硅烷气体形成的非晶硅层;在所述非晶硅层上部形成的、含微量质杂的硅化钨层,所述非晶硅层具有可防止所述杂质向栅绝缘膜侧渗透的粒度尺寸。...
该专利属于现代电子产业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过现代电子产业株式会社授权不得商用。
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