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硅基组合物、低介电常数膜、半导体器件以及制造低介电常数膜的方法技术
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文档序号:3215722
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一种组合物,包含硅氧烷树脂、基本上由硅、碳和氢构成的硅化合物,其中在一分子的主链中形成-X-键的碳与硅原子数之比范围为2∶1~12∶1,其中X是(C)#-[m],其中m是1~3的整数,或者9个或更少碳原子的取代或未取代的芳香族基团和溶剂,对...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。
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