下载硅基组合物、低介电常数膜、半导体器件以及制造低介电常数膜的方法的技术资料

文档序号:3215722

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种组合物,包含硅氧烷树脂、基本上由硅、碳和氢构成的硅化合物,其中在一分子的主链中形成-X-键的碳与硅原子数之比范围为2∶1~12∶1,其中X是(C)#-[m],其中m是1~3的整数,或者9个或更少碳原子的取代或未取代的芳香族基团和溶剂,对...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。