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半导体制造装置、制造方法及掩膜位置确定装置制造方法及图纸
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文档序号:3213798
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一种装置,包括: 用于在衬底上形成半导体膜的第一室; 用于在半导体膜上照射激光的第二室; 运输室,其借助阀门与第一和第二室分开并在不将衬底暴露于大气的情况下可操作地输送衬底; 至少一个激光振荡器; 用于会聚来自...
该专利属于株式会社半导体能源研究所所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社半导体能源研究所授权不得商用。
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