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一种用于半导体装置的设备，其包含：一具有上和下部分的腔室，该下部分的体积大于该上部分的体积；一在该腔室中的晶座，该晶座在其顶端表面上具有一基板；一用于将处理气体注入该腔室中的注射器；一在该腔室上方的线圈单元；一连接至该线圈单元的射频电源；和...
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