温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种半导体结构及其形成方法，所述结构包含半导体基底以及设置于半导体基底中的隔离部件。隔离部件包含沿着隔离部件与半导体基底之间的边界设置的衬层、设置于衬层之上的第一氧化物填充层、以封闭环形方式围绕第一氧化物填充层的介电阻挡结构、以及设置于介电...
该专利属于华邦电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华邦电子股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。