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公开了一种在基座上用于加热处理室中半导体基板的工艺和系统。根据本发明，公开了基座。根据本发明，基座包括一将晶片悬在基座上方的支撑结构，该支撑结构由具有较低导热率的材料制成。该支撑结构具有特定高度，禁止或者防止高温处理期间在晶片中形成径向温度...
该专利属于马特森技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过马特森技术公司授权不得商用。

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