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沉积掺碳氧化物（ＣＤＯ）。一种沉积方法，包括提供衬底；以及在衬底存在的情况下，将氧导入到掺碳氧化物前体中。掺碳氧化物膜形成在衬底上。在另一种方法中，衬底被放置在化学气相沉积装置的基座上。辅助气体随同掺碳氧化物前体和氧一起被导入，以在衬底上形...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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