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一种在等离子体的作用下在基材表面上形成膜的等离子体成膜设备，包括：　　　　（Ａ）包含所述膜的原材料的第一种气体供应源；　　　　（Ｂ）第二种气体供应源，它由等离子体放电引起以达到激发状态、但是不包含能形成到膜形式中的组分；　　　　（Ｃ）与所述...
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