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本发明提供了一种内连线金属层结构的测试方法，它可以在常温下，将内连线金属层结构置于一个环境条件下，以此在内连线金属层结构中产生应力迁移现象，并对内连线金属层结构导入一个电源，该内连线金属层结构因电源导入而产生的焦耳效应使内连线金属层结构产生...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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