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提供了一种薄膜晶体管阵列面板的制造方法，该方法包括在基板上形成具有栅电极、源电极、和漏电极的薄膜晶体管；在源电极和漏电极上形成钝化层；在钝化层上形成光刻胶膜；使用光刻胶膜作为掩模选择性地蚀刻钝化层；形成导电膜；以及使用ＣＭＰ（化学机械抛光）...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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