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本发明涉及到改善单重或双重镶嵌型互连结构的制作的方法，其中在制作之后不存在硬掩模的滞留问题或各个金属线条之间的导电性问题。本发明的方法至少包括化学机械抛光和ＵＶ曝光或化学修复处理的步骤，这些步骤改善了所形成的互连结构的可靠性。本发明还涉及到...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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