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一种基板处理装置，对设在基板上的抗蚀剂膜进行处理，其特征在于，　　　　该基板处理装置具备：保持上述基板的旋转台；以及喷嘴体，与被该旋转台保持的基板相对置地配置，混合硫酸和过氧化氢水并供给到上述基板；　　　　上述喷嘴体具备：　　　　本体部，沿...
该专利属于芝浦机械电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过芝浦机械电子株式会社授权不得商用。

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