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本发明提供可以使通过第２次显影处理可以将有机膜图案加工成新的图案形状的处理顺利进行的衬底处理方法。依次进行：用于将衬底加热的加热处理、用于将有机膜图案表面上形成的破坏层除去的前处理、用于将有机膜图案的至少一部分缩小或者将所述有机膜图案的一部...
该专利属于NEC液晶技术株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过NEC液晶技术株式会社授权不得商用。

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