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一种光刻器件制造方法，包括步骤： 以包括从表面突出的并被表面的未覆盖部分分隔的第一和第二特征段的图案，对第一辐射敏感材料层进行图案化，所述第一辐射敏感材料层被设置成至少部分地覆盖衬底表面； 将第二辐射敏感材料层提供给表面的未覆盖...该专利属于克恩·万英根谢诺、温蒂·弗朗西斯卡·约翰娜·杰豪尔万安塞、约翰尼斯·安娜·卡丹克尔斯、帕特里克·翁所有，仅供学习研究参考，未经过克恩·万英根谢诺、温蒂·弗朗西斯卡·约翰娜·杰豪尔万安塞、约翰尼斯·安娜·卡丹克尔斯、帕特里克·翁授权不得商用。