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形成图案的方法技术
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文档序号:3174405
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本发明揭示一种形成图案的方法,包括下列步骤。提供一基板,基板包括一待蚀刻层;形成一第一抗蚀剂层于基板上;将第一抗蚀剂层的顶部图案化;形成一第二抗蚀剂层于图案化的第一抗蚀剂层上;移除一部分的第二抗蚀剂层;及蚀刻第二抗蚀剂层、第一抗蚀剂层、及待...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
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