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本发明公开了各种方法（６００、７００）以及系统（１００），用以相对于一半导体基板（１３０）来量测、决定、或是对齐一激光束点的位置，该半导体基板（１３０）之上或之内具有要通过传递一处理激光束至一处理激光束点（１３５）来进行选择性处理的多个结构...
该专利属于伊雷克托科学工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过伊雷克托科学工业股份有限公司授权不得商用。

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