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公开了具有均匀磁场分布的自适应耦合等离子体源。该自适应耦合等离子体源包括：在反应室的中心区域设置于反应室上方的平板形衬套；多个上部线圈，从所述衬套伸出以被设置于该反应室的上方，以便螺旋状地围绕所述衬套；以及在所述反应室侧壁部分的周围设置以围...
该专利属于自适应等离子体技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过自适应等离子体技术公司授权不得商用。

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