温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种化学气相沉积设备,包括沉积室,所述沉积室开有至少一个排气口和至少一个进气口,其中,所述排气口的表面与沉积室的内壁表面圆滑相连。本发明还公开了一种炉管,该炉管的排气口的表面与炉管的内壁表面圆滑相连。本发明的化学气相沉积设备及炉...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种化学气相沉积设备,包括沉积室,所述沉积室开有至少一个排气口和至少一个进气口,其中,所述排气口的表面与沉积室的内壁表面圆滑相连。本发明还公开了一种炉管,该炉管的排气口的表面与炉管的内壁表面圆滑相连。本发明的化学气相沉积设备及炉...