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用于对硅晶片进行表面处理的装置，具有用于运输硅晶片的运输辊子以及至少一个设置用于以液态的处理介质沿由运输辊子确定的运输平面湿润硅晶片表面的输送装置，其中，构造所述输送装置用于将处理介质施加到布置在运输平面内的面朝下的硅晶片表面上。设置多个用...
该专利属于吉布尔.施密德有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过吉布尔.施密德有限责任公司授权不得商用。

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