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除其它内容外，本文论述了具有在衬底上的至少一个ＣＭＯＳ晶体管和在衬底上的至少一个鳍式双极晶体管的设备及制作设备的方法。...
该专利属于英飞凌科技股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过英飞凌科技股份公司授权不得商用。

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