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一种用于处理工件的等离子体反应器，所述等离子体反应器包括：一外壳；一位于所述外壳内的工件支座，该工件支座对着所述外壳的上部，所述工件支座和所述外壳的上部确定了它们之间的一处理区域，该处理区域基本延伸跨越所述晶片支座的直径；　 ...
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