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一种基于高次谐波的极紫外光刻曝光方法技术
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文档序号:31592419
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一种基于高次谐波的极紫外光刻曝光方法,1)使用飞秒级的强场激光与工作介质相互作用产生高次谐波;2)反应产生的高次谐波复色光通过过滤选取谐波级次,即用于测试的波长所在的谐波级次,从而得到测试波长的纯净极紫外光;3)极紫外光通过狭缝进入曝光装置...
该专利属于南京大学所有,仅供学习研究参考,未经过南京大学授权不得商用。
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