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本发明公开了一种混合基质膜及其制备方法和应用，属于材料科学领域与气体分离领域。混合基质膜包括高分子聚合物与多孔金属
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该专利属于北京工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京工业大学授权不得商用。

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