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本申请提供一种研磨盘和基板清洁装置，该研磨盘包括厚度自适应层以及固定于所述厚度自适应层两个相背对两个表面的基底层及研磨片，所述基底层连接于研磨头，所述研磨片与产品接触以对产品进行研磨清洁，所述厚度自适应层能基于研磨盘施加于待清洁的产品上的压...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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