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一种利用表面活化剂抑制界面反应的方法，涉及磁性多层膜的制备方法。本方法是在清洗干净的玻璃基片上依次沉积钽Ｔａ（５０～１２０＊）／氧化镍ＮｉＯ（６０～１００＊）／铋Ｂｉ（或Ｐｂ、Ｉｎ等）（２～３０＊）／镍铁ＮｉＦｅ（３０～１００＊）／钽Ｔａ（...
该专利属于北京科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学授权不得商用。

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