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本发明公开了一种平顶光斑整形元件制备方法、元件和激光加工设备，该方法包括：根据光强描述模型和模拟退火优化算法，得到圆形达曼光栅元件的光栅结构参数；根据所述光栅结构参数，生成光刻掩模版文件；根据所述光刻掩模版文件对石英基片上的光刻胶进行加工处...
该专利属于北京润和微光科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京润和微光科技有限公司授权不得商用。

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