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一种高导电效率的GaN基HEMT芯片制造技术
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文档序号:30866725
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本实用新型公开了一种高导电效率的GaN基HEMT芯片,包括硅基衬底,外延层,所述外延层包括GaN外延层和AlGaN外延层,所述GaN外延层表面均匀开设有沟槽,所述AlGaN外延层固定连接于GaN外延层表面开设的沟槽中,其中,所述GaN外延层...
该专利属于淄博汉林半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过淄博汉林半导体有限公司授权不得商用。
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