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本发明提供了一种金属互连结构及其制造方法，包括：间隔设置的金属互连线，第一金属层分别设于所述金属互连线上，第二金属层，分别设于所述第一金属层，介质层，设于所述第一金属层和所述第二金属层的两侧边，与所述第一金属层和所述第二金属层均具有间隙，金...
该专利属于上海集成电路制造创新中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路制造创新中心有限公司授权不得商用。

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