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本实用新型公开了一种连续多腔体真空镀膜机，包括进片腔、镀膜腔和出片腔，所述进片腔的出料口与镀膜腔的进料口连通，所述镀膜腔的出料口与出片腔的进料口连通；所述进片腔的进料口设有第一插板阀，所述进片腔与镀膜腔的连通处设有第二插板阀，所述镀膜腔与出...
该专利属于武汉摩擦力信息技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉摩擦力信息技术有限公司授权不得商用。

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