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本发明提供了溅射靶和使用所述靶形成有以硫化锌作为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质、以及所述靶的制造方法，其特征在于溅射靶以硫化锌作为其主成分，并能够在２．０到２．６的范围内调整含导电氧化物的膜的折射率。这种溅射靶以及采用该靶在光记录介质...
该专利属于日矿金属株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日矿金属株式会社授权不得商用。

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