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形成深坑区域的方法及其在制作光学记录介质中的应用技术
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文档序号:3049812
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本发明公开了一种用于形成至少一坑的方法及其在制作光学记录介质中的应用。从一叠层(2)形成坑(1),该叠层(2)至少包括:第一层(3),由能够改变物理状态的材料形成;以及第二层(4),由与形成第一层(3)的材料相同但处于不同物理状态的材料形成...
该专利属于原子能委员会所有,仅供学习研究参考,未经过原子能委员会授权不得商用。
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