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公开了光刻设备、用于卸载衬底的方法和用于装载衬底的方法。一种支撑台，被配置为支撑衬底，支撑台具有半径r0并且包括：基面；第一密封，围绕支撑台的边缘；第二密封，位于第一密封的径向向内，以形成双密封；多个孔，位于第二密封的径向向内，并且多个孔被...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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