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本发明提供一种能够获得较高抗蚀膜去除率的基板处理装置以及基板处理方法。在壳体(12)内的转台(21)上，基板(11)的处理面(S1)与固定板(17)的上表面隔开规定间隔，并以处理面(S1)朝下的姿势被固定。基板(11)与转台(21)一体旋转...
该专利属于株式会社JET所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社JET授权不得商用。

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