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本发明实施例提供一种半导体装置。半导体装置包括半导体鳍片以及栅极结构，半导体鳍片形成于基板上；栅极结构位于半导体鳍片的通道区域之上，上述栅极结构包括栅极介电层及栅极电极，其中上述栅极介电层包括底部分及侧部分，且上述栅极电极与上述栅极介电层的...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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