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本发明提供一种极片及电化学装置和电子装置，所述极片包括集流体，所述集流体的至少一个表面具有功能涂层和无涂层区域，所述功能涂层具有功能区域、以及由所述功能区域向所述无涂层区域延伸的延伸区域，所述延伸区域的最小厚度大于0且其最大厚度小于所述功能...
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