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本发明涉及光学装置及包含该装置的光刻系统及其曝光方法，所述光学装置包括空间光调制器，所述空间光调制器对光源照明面不同区域的光进行空间调制并反射为具有第一图形的光；还包括至少一光学模组，所述光学模组用于将空间光调制器反射的具有第一图形的光分割...
该专利属于上海度宁科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海度宁科技有限公司授权不得商用。

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