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公开了一种掩模板(100)及其制作方法、有机发光装置(200)的制备方法，该掩模板(100)包括基板(1)和形成于所述基板(1)上的第一开口部(2)和第二开口部(3)，所述第一开口部(2)包括直线延伸的第一侧边(4)和第二侧边(5)，所述第...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。