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本发明公开了一种红外光学系统杂散辐射的分析方法和抑制方法，红外光学系统杂散辐射的分析方法，包括：基于红外光学系统，在杂散光分析软件中构建光机分析模型，并对光机分析模型中的各个光机部件进行表面属性定义；通过在光机分析模型中设置探测器表面光源，...
该专利属于中国电子科技集团公司第十一研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第十一研究所授权不得商用。

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