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本发明属于真空设备领域，提供了一种多炉管的原子层沉积设备，包括至少两个炉管，每个炉管的炉尾通过连接管共同连接有一个总管路，总管路的另一端连接有一个真空抽吸装置。本发明提供的多炉管的原子层沉积设备，各炉管共用一套真空系统，保证薄膜沉积均匀性的...
该专利属于无锡琨圣智能装备股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡琨圣智能装备股份有限公司授权不得商用。

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