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优化偏振照明制造技术
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文档序号:2862461
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公开的概念包括一种对将要形成在基底表面上的图案的照明偏振进行优化的方法。通过如下步骤来优化偏振照明:对于至少两种偏振态确定照明器上的至少一点的照明强度,对于至少两种偏振态确定照明器上的至少一点的图像对数斜率,确定最大图像对数斜率(ILS)其...
该专利属于ASML蒙片工具有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML蒙片工具有限公司授权不得商用。
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