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用于处理基板的装置和方法制造方法及图纸
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文档序号:27487629
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本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括:工艺腔室,在所述工艺腔室中具有工艺空间;支承单元,其在所述工艺空间中支承所述基板;加热构件,其加热支承于所述支承单元上的所述基板;和排放单元,其抽排所述工艺空间。所述排放单元包...
该专利属于细美事有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过细美事有限公司授权不得商用。
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