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本发明提供以下述式(I)表示的寡核苷酸合成用片段、其制造方法、使用其的寡核苷酸合成方法。式中，B为保护/未保护核苷碱基，R1为保护基，R2、R3、R4为OCH2CH2CN、OCH2CH＝CH2等，R5为取代/未取代的脂肪族基团/芳香族基团；...
该专利属于株式会社纳蒂亚斯所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社纳蒂亚斯授权不得商用。

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