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本发明是有关于一种化学增幅光阻剂组成物，是含有如右式（Ⅰ）结构单元的高分子聚合物，其中Ｒ↑［１］为氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］的烷基、三氟甲基（ＣＦ↓［３］）；Ｑ为Ｃ↓［４］－Ｃ↓［１２］的环状烷基；Ｒ↑［２］为：Ｈ、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］的...该专利属于台湾永光化学工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾永光化学工业股份有限公司授权不得商用。
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本发明是有关于一种化学增幅光阻剂组成物，是含有如右式（Ⅰ）结构单元的高分子聚合物，其中Ｒ↑［１］为氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］的烷基、三氟甲基（ＣＦ↓［３］）；Ｑ为Ｃ↓［４］－Ｃ↓［１２］的环状烷基；Ｒ↑［２］为：Ｈ、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］的...