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均匀涂布基片的方法技术
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文档序号:2746203
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一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置,其包括将基片安装在封闭式箱体内,以及使控制气体通过入口进入箱体,控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上,然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸...
该专利属于ASML控股公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML控股公司授权不得商用。
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