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本发明公开了一种测量光刻套刻精度的标尺，该标尺由中心相互重合、四个边相互平行的内外两个正方形组成，其中在内的正方形边长为１０μｍ，在外的正方形边长为２０μｍ，还包括以上述正方形的中心为原点的横向和纵向两个坐标轴，该坐标轴上标有刻度。本发明测...
该专利属于上海华虹NEC电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹NEC电子有限公司授权不得商用。

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