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外延结构制造技术
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文档序号:27438838
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本发明提供一种外延结构,包括:基板、缓冲层、背面扩散阻挡层、形成在背面扩散阻挡层上的通道层以及形成在通道层上的阻挡层。缓冲层形成在基板上。背面扩散阻挡层形成在缓冲层上,背面扩散阻挡层的化学组成为Al
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该专利属于环球晶圆股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过环球晶圆股份有限公司授权不得商用。
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