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本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种腔盖、半导体刻蚀装置及其温控方法。所述腔盖用于封闭反应腔室，所述腔盖包括：温控板，所述温控板内包含温度传感器，所述温度传感器用于测量温控板温度；输入管道，连接所述温控板且在所述温控板中导通，用于传输...
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