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本发明涉及一种3D叠层掩模衬底结构及其制备方法和外延生长方法，属于光电子技术领域。本衬底结构包括一衬底，衬底上依次设有底层掩模层、顶层掩模层；其中，底层掩模层设有周期性分布的特殊图形窗口，分别可以是条形、正三角形、和正六边形(在平面内的对称...
该专利属于北京飓芯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京飓芯科技有限公司授权不得商用。

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